TEM試料作製装置

Gatan社 695型 PIPSⅡ  TEM試料作製装置

Arブロードイオンビームによる高精度な仕上げ研磨を可能にします。
精密なセンタリング、簡単な制御、高い再現性を実現します。

– X、Yステージにより、試料上の加工領域とアルゴンビームの位置合わせが可能
– 光学系改善で100 Vの低電圧でも使用でき、素早くFIB試料のダメージ層除去が可能
– DigitalMicrograph®ソフトウェアの画像保存および分析機能を使用したデジタル光学イメージングが可能
– 10インチのカラータッチスクリーン、すべてのPIPS™ IIパラメータを表示および制御

Gatan社 955型 SolarusⅡ プラズマクリーナー

 

SolarusⅡ装置は、TEM/SEM試料からハイドロカーボンを除去するための高性能プラズマクリーニング装置です。
新開発のH2/O2プラズマクリーニングで、従来のAr/ O2プラズマと比べて速度が速く、イオンダメージが少なく、
温度上昇も少ないという優れた特性を持っています。
高分解能観察を行う収差補正電顕には特に有効です。

– 試料表面の有機コンタミネーションを、安全にかつ効率的に再現性良く除去したい研究者にとってこのシステムは最適な装置です。
– 冷却ホルダーの焼きだし機構と真空保管機能一体化: 設置スペースと運用コストを効率化
– ユーザーインターフェイスの改良: 確実なクリーニングのために最適化されたレシピを採用。
 ベント、真空排気時の正しい操作を保証するガイド付き操作ワークフロー
– 低出力での動作 (2 W): デリケートな試料(例えば、マイクログリットなど)に対して優しくクリーニング。
 クライオ電顕観察のためにカーボングリットの親水化処理にも使用可能
– 高性能を備えた新しいシステム: 分析に影響を与えるTEM、およびSEM試料表面のハイドロカーボンを除去

Gatan社 657型 ディンプルグラインダーⅡ

電子が透過可能なレベルに近い厚さまで試料を高速かつ高い信頼性の機械的手法によって予備研磨することで、
イオンミリング時間を大幅に短縮し、不均一研磨を軽減します。

– 広い観察領域: 大型ホイールとフラットホイールの両方を使用することで、加工後に大きな観察領域を保つことが出来ます
– 高い試料強度 : 試料に厚い縁部が残るため、ディンプル加工後も試料が保護され、強度が増加します
– TEM 試料の直接作製: ディンプル加工後の試料の最終厚みが 3μm 未満の試料作製が可能です
– 深さと厚みの正確な制御: ユーザーが指定出来る停止点と厚さのリアルタイム表示により、
 適切なディンプル深さと厚みで試料作製が可能です
– ミクロン単位の位置決め: 互いの回転軸が直交し交差することで、より正確に研磨位置決めが可能です

Gatan社 601型 超音波ディスクカッター

3 mmの透過型電子顕微鏡(TEM)ディスクに収まらない脆性材料から、
ディスク状またはオリジナル形状を精密に切り出し可能です。

– 半導体、セラミック、鉱物などの硬質の脆性材料から単純な穴あけや、オリジナル形状、ディスク状TEM試料等をすばやく切り出し
– 圧電性結晶体を利用して筒状の切断ツールを駆動し、細粒度の炭化ホウ素スラリーを利用して、
 40 µm未満から5 mmまでの厚みの材料を切り抜き
– 周波数を手動調整し切削速度を最適化することによって、機械的および熱的損傷を最小限に抑制
– ばね懸架式プラットフォームとマグネット固定式テーブルを使用して水平方向への移動を防ぐことにより、
 エッジ部の欠けと試料損傷を軽減
– 専用の双眼実体顕微鏡とX、Yテーブルを使用することで所望の箇所を中央に精密に位置あわせ可能

Gatan社659型 ディスクパンチ

金属、合金など、あらゆる延性材料から透過型電子顕微鏡(TEM)ディスクを切り出します。

– 独自のピストン-リム設計で圧縮力およびせん断力が試料の中央領域まで及ぶのを防止
– 切断および支持ピストンが精密にフィットするため、切断縁をシャープに保ち、
 パンチ加工後のディスクを容易に取り出し可能
– ベース部が頑丈な金属製のため、精度を損なうことなく長期間の使用が可能
– パンチ加工エリア/ディスクが見やすく取り出しやすいため、加工後の回収を容易に行えるほか、
 1回の操作で複数のパンチ加工をすばやく実行可能

Gatan社 623型 ディスクグラインダー

試料の事前薄膜加工と研磨加工によってイオンミリング時間の短縮と品質の向上が可能になります。

– 軽量グラインダが最大研磨圧を軽減し、試料損傷を抑制
– 試料送りねじの微小送り量とプリロードによって試料厚さを精密に制御
– 試料マウント部と精密にフィットする大径研磨面を用いて、均一に薄い試料(5 µmの精度)を作製可能

Gatan社 930型 Cryoplunge 3 急速凍結システム

GentleBlot™テクノロジを搭載したCryoplunge® 3システムは、
極低温電子顕微鏡観察(クライオEM)用の凍結水和試料の作製に使用されます。

– GentleBlotテクノロジは、吸い取り力と圧力を最適化して穏やかな片面および両面吸い取りを実現することにより、
 脆弱な試料支持部の破損を最小限に抑制
– 湿度調節されたプランジチャンバが吸い取りプロセス中の乾燥から試料を保護
– 温度調節されたポットが凝縮エタンを融解点で維持
– 特殊設計されたプランジロッド上のクイックリリースメカニズムにより、
 プランジピンセットをすばやく簡単に装着できるため、試料の取り扱いが簡単
– 着脱可能な液体窒素ワークステーションが汚染防止環境をもたらして凍結水和試料を保護

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